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Kurt Lesker磁控濺射設備

Kurt Lesker磁控濺射設備.jpg


儀器簡介

美國進口Kurt Lesker Lab-line磁控濺射設備,單步工藝可連續蒸鍍3種金屬及氧化物材料,DC及RF模式可選。


性能指標

腔體本底壓力可達2E-8 Torr,蒸發速率0.1A/s~10A/s;膜厚均勻性±2%。可根據不同材料特性要求做調整。可以使用特殊夾具作業非標準尺寸的加工基片。


應用范圍

可用于Pt、Au、Ti、Cr、Al、Ag、Ni、Ge、W等多種金屬鍍膜,也可用于SIO2、ITO等氧化物及金屬氧化物半導體材料的沉積,具有沉積材料致密性強、膜厚控制精度高的優點。


工藝圖:


4寸硅片濺射石墨

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樹脂材料濺射鎳

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玻璃片金屬電極

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特殊材料鍍銀顆粒

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硅片基底金屬電極

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