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NXQ 4006紫外雙面光刻機(jī)

NXQ 4006紫外雙面光刻機(jī).jpg


儀器簡(jiǎn)介

光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (UV Aligner)。本機(jī)型為接觸、接近式光刻機(jī),可雙面對(duì)準(zhǔn)曝光。


性能指標(biāo)

光刻參數(shù):

襯底尺寸:5mm*5mm~ 100mm*100mm chip ;Φ2"~Φ6" wafer;

掩膜版尺寸:2.5"~7"

對(duì)準(zhǔn)精度:± 0.5μm

分辨率:0.6μm


應(yīng)用范圍

可應(yīng)用于MEMS器件、薄膜晶體管、紅外傳感器、激光器等半導(dǎo)體產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn)。適用于Si、GaN、GaAs、InGaAs、InP、石英片、藍(lán)寶石片等多種襯底材料,適合碎片、圓片等不同基片尺寸。


工藝圖:


圖片1.png

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